工程概况：
该项目为地上21层，地下部分5层，框架剪力墙结构，筏板基础，基础埋深为-21m（相对标高），拟建建筑物南侧与鼎好电子城地下室的北侧相连。本工程施工包括基坑土方、护坡、降水。
降水方案设计：
1.设计原则
疏干上层滞水和层间潜水，利用水头差将潜水导入降水井外排。
2.降水要求
基坑实际深度按照21m考虑。
槽底标高低于场区内两层地下水的水位标高，将水位降至槽底最深处0.5m以下，其中上层滞水和层间潜水需全部疏干，才能保证基坑的正常施工。
3.降水方案的选择
（1）根据降水要求和地下水、地层分布及组成的特点，本工程采用管井井点围降法，用管井降水井的深度控制降水范围达到基坑降水目的，用管井降水井的密度阻止地下水流入基坑。
